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全程水處理器電化學氧化法主要用于去除水中的氰
電化學氧化法在處理有機硫化合物廢水中的應用。全程水處理器電化學氧化法主要用于去除水中的氰、酚以及COD等，亦有利于陽極產物Ag+離子進行消毒處理的。還可用以去除廢水中的含硫化物(S2-，有機硫化物)、有機磷化合物和有機農藥（如馬拉硫磷）等。某含有機硫化合物廢水，用電解法氧化處理，電流密度2A/dmz，電解30min，COD從3248mg/L降到lOOOmg/L以下，有人試驗電解海水，產生OCl-，然后與廢水混合，進行氧化處理，認為在特定條件下十分經濟。
據國外試驗，在廢水中投加一定量食鹽，可對廢水進行電解氧化脫色，若采用對C廣離子有專屬吸附作用的多孔炭電極，可提高脫色效果。
化學氧化法處理含氰廢水。電解含氰廢水時，CN-可在陽極直接被氧化，CN-的陽極氧化需在堿性條件下進行，這是因為酸性條件下形成的HCN在陽極上放電十分困難，而堿性條件下形成的CN-易于在陽極放電；同時陽極反應也需要有OH-離子參加。當廢水中含氰濃度較低時，副反應的比例增大，使電流效率降低；同時溶液中電解質少，電阻增大，使電壓效率亦低。全程水處理器通常要往廢水中加一些食鹽。食鹽的加入，不僅使溶液導電性增加，而且C廠離子在陽極放電，產生氯氧化劑，強化了陽極的氧化作用。維持適當堿性(pH=8-10)，有助于防止溶液中CNC1的積聚。
為了有效地氧化破壞CN-，需提高陽極產物0L1明含量。OCl-產量的主要因素是NaCl的濃度和電流密度。提高氯化鈉濃度，固然有利于CN-的氧化去除，但食鹽投量太大，電能效率反而下降。通常應根據不同的廢水含氰濃度、電流密度、極板中心距，通過試驗確定最佳投鹽量。據國內試驗資料，處理含氰25mg/L-lOOmg/L的廢水，投加食鹽量為2g/L-3g/L。電流密度提高，雖可增加OCl-的產量，但同時加劇了石墨陽極的損耗，并使超電勢增加，電耗增大。通常，廢水濃度高，極板中心距小，可采用較大的電流密度；反之，可采用較小的電流密度。電流密度一般都低于9A/dm2。同時，要在不同的操作條件（食鹽濃度、電流密度）下，控制適當的OCl-平衡濃度及一定的槽溫。
全程水處理器電解氧化法除氰時，可采用翻騰式和回流式電解槽。陽極可采用石墨，陰極可用普通鋼板。為防止有害氣體逸人大氣，電解槽應采用全封閉式。電化學氧化法處理含氰廢水，可使游離CN-濃度降至O．Img/L以下，并且不必設置沉淀和污泥處理設施。缺點是處理費用高于氯氧化法。
